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雙靶射頻磁控濺射鍍膜儀 雙靶射頻磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發(fā)，雙靶射頻磁控濺射鍍膜儀兩個300W射頻電源，射頻電源可用于非金屬薄膜的制備，兩個...
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雙靶磁控濺射鍍膜儀(DC&... 雙靶磁控濺射鍍膜儀(DC&RF)是我公司自主研發(fā)的一款高性價比真空實驗室PVD鍍膜設備，雙靶磁控濺射鍍膜儀(DC&RF)...
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雙靶磁控濺射鍍膜儀（雙膜厚... 雙靶磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發(fā)的一款高性價比磁控濺射鍍膜設備，具有標準化、模塊化、可定制化的特點。磁控靶有1英寸2英...
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三靶直流磁控濺射鍍膜儀 三靶直流磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發(fā)的一款高性價比磁控濺射鍍膜設備，具有標準化、模塊化、可定制化的特點。三靶直流磁控濺...
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三靶射頻磁控濺射鍍膜儀 三靶射頻磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發(fā)的一款高性價比真空PVD鍍膜設備，具有標準化、模塊化、可定制化的特點。三靶射頻磁控...
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靶下置型雙靶DCRF磁控濺... 靶下置型雙靶DCRF磁控濺射鍍膜儀的采用靶下置布局，樣品臺在上方，靶下置型雙靶DCRF磁控濺射鍍膜儀配有直流和射頻雙電源...
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往復樣品臺雙靶DCRF磁控... 往復樣品臺雙靶DCRF磁控濺射鍍膜儀我公司研發(fā)的配有兩個靶位的實驗室專用鍍膜儀，往復樣品臺雙靶DCRF磁控濺射鍍膜儀采用...