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TN-PSP180G-2TA-RSH 小型雙靶等離子濺射鍍膜儀(增強(qiáng)版-旋轉(zhuǎn)旋轉(zhuǎn)可加熱樣品臺(tái))是我公司自主研發(fā)的一款高性?xún)r(jià)比等離子濺射鍍膜設(shè)備,具有結(jié)構(gòu)緊湊,簡(jiǎn)單易用,集成度高。樣品臺(tái)旋轉(zhuǎn)可加熱不僅提高鍍膜均勻性,而且更具附著力。等離子濺射靶為2英寸的標(biāo)準(zhǔn)尺寸,客戶(hù)可以根據(jù)需要選擇1~3個(gè)靶的不同配置,以滿(mǎn)足鍍單層膜或者多種材料多層膜的不同實(shí)驗(yàn)需求。儀器所配電源為150W直流高壓電源,可用于金屬濺射鍍膜,尤其適合金銀銅等貴金屬的鍍膜。
產(chǎn)品名稱(chēng)
小型雙靶等離子濺射鍍膜儀(增強(qiáng)版-旋轉(zhuǎn)可加熱樣品臺(tái))
產(chǎn)品型號(hào)
TN-PSP180G-2TA-RSH
主要特點(diǎn)
技術(shù)參數(shù)
抽氣/排氣接口:KF16; 真空測(cè)量:電阻規(guī);
產(chǎn)品規(guī)格
尺寸500mm × 320mm × 470mm;重量30kg ;供電電壓:AC220V,50Hz;功率2000W
1. 鍍膜儀配有通氣接口,可通入保護(hù)性氣體,若客戶(hù)需通入混合氣體,可聯(lián)系工作人員自行配置高精度質(zhì)量流量計(jì)以滿(mǎn)足實(shí)驗(yàn)需要。
2.本鍍膜儀標(biāo)配為雙極旋片真空泵,其具有體積小,抽真空快,操作簡(jiǎn)單的優(yōu)勢(shì),若客戶(hù)有進(jìn)一步提升真空度的需要,可以聯(lián)系技術(shù)人員選配分子泵組組成高真空系統(tǒng)。
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