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產(chǎn)品詳情
  • 產(chǎn)品名稱:MPCVD單晶鉆石沉積設(shè)備培育鉆石

  • 產(chǎn)品型號(hào):TN-MPCVD
  • 產(chǎn)品廠商:泰諾
  • 產(chǎn)品文檔:
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簡(jiǎn)單介紹:
MPCVD化學(xué)氣相沉積法制備高品質(zhì)單晶鉆石,化學(xué)氣相沉積法制備高品質(zhì)多晶鉆石自支撐厚膜,化學(xué)氣相沉積法制備高品質(zhì)多晶鉆石薄膜,MPCVD化學(xué)氣相沉積法制備石墨烯、碳納米管、富勒烯和鉆石膜等各種碳納米薄膜
詳情介紹:

適合的應(yīng)用:

化學(xué)氣相沉積法制備高品質(zhì)單晶鉆石

化學(xué)氣相沉積法制備高品質(zhì)多晶鉆石自支撐厚膜

化學(xué)氣相沉積法制備高品質(zhì)多晶鉆石薄膜

化學(xué)氣相沉積法制備石墨烯、碳納米管、富勒烯和鉆石膜等各種碳納米薄膜

產(chǎn)品特點(diǎn): 

本產(chǎn)品為不銹鋼腔體式6kw微波等離子體設(shè)備,功率密度高;

水冷式基片臺(tái)和水冷式金屬反映腔,保證系統(tǒng)能長(zhǎng)時(shí)間穩(wěn)定工作;

基片溫度以微波等離子體自加熱方式達(dá)到;

真空測(cè)量?jī)x表采用全量程真空計(jì),可**測(cè)量本底真空和工作氣體壓強(qiáng);

真空泵及閥門(mén)采用渦輪分子泵(極限真空為1×10-5Pa)和旋片式機(jī)械真空泵(極限真空為1Pa),系統(tǒng)可自動(dòng)控制沉積氣壓;

配備冷卻水循環(huán)系統(tǒng),確保裝置高功率下可長(zhǎng)時(shí)間**穩(wěn)定運(yùn)行;

系統(tǒng)帶15寸觸摸屏,PLC自動(dòng)控制,可設(shè)置溫度或氣壓恒定,可保存復(fù)用多達(dá)20套工藝文件;

全自動(dòng)工藝控制模塊,可以穩(wěn)定可靠地制備高品質(zhì)鉆石薄膜和晶體

技術(shù)指標(biāo)與特性:

項(xiàng)目名稱

規(guī)格

配置

主控單元

 

PLC 自動(dòng)程控

微波源

6kw  2.45Ghz

微波電源

微波發(fā)生器

波導(dǎo)

6kw

三銷釘

模式轉(zhuǎn)換器

6kw

 

諧振腔體

6kw

柱形水冷腔體

基臺(tái)

φ70mm

電動(dòng)升降

鉆石生長(zhǎng)基本參數(shù)

 

7x7mm   37

8x8mm   29

9x9mm   21

10x10mm  13

MFC(質(zhì)子流量計(jì))

5

Ch4  0-500sccm

H2   0-500sccm

N2  0-500sccm

Ar   0-500sccm

O2   0-500sccm

測(cè)溫元件

 

高精度紅外測(cè)溫儀

真空測(cè)量

 

高精度真空計(jì)

分子泵

 

默認(rèn)無(wú)/可選

氫氣純化

 

9N級(jí)

水循環(huán)

 

3P水冷機(jī)

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