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TN-O1200-50IT-3Z-HV1200℃單溫區(qū)3路質(zhì)量供氣高真空CVD系統(tǒng)由單溫區(qū)管式爐、三路質(zhì)量流量計和高真空分子泵組構成。管式爐由精密控溫儀表進行PID控溫,可編輯30段升降溫程序,同時有過熱和斷偶保護功能。爐管兩側法蘭配有數(shù)字式真空計和機械式壓力表,可以用來控制路管內(nèi)的氣氛環(huán)境。同時1200℃單溫區(qū)3路質(zhì)量供氣高真空CVD系統(tǒng)管式爐采用高清真彩觸控屏操作,簡單易上手,即使是非專業(yè)人員經(jīng)過簡單的培訓也可以熟練掌握儀器的使用方法,能夠極大的提高您的實驗效率,1200℃單溫區(qū)3路質(zhì)量流量計高真空CVD系統(tǒng)所配有的三路質(zhì)量流量計,精度高可靠性強,可以準確混合1~3路氣體,操作面板采用數(shù)字顯示,直觀高效。若客戶有特殊需要也可聯(lián)系技術人員定制任意數(shù)量的氣路。本系統(tǒng)還配有精密分子泵組,可以達到1.0E-3pa級別的真空度,較普通機械泵可以為用戶提供更純凈嚴苛的實驗環(huán)境。
應用范圍:高校、科研院所、工礦企業(yè)做高溫燒結、金屬退火、質(zhì)量檢測等,尤其適合需要多種氣體混合的氣氛環(huán)境的CVD實驗
名稱 |
1200℃單溫區(qū)3路質(zhì)量供氣高真空CVD系統(tǒng) |
型號 |
TN-O1200-50IT-3Z-HV |
參數(shù) |
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