0371-5536 5392 0371-5519 9322
單靶磁控鍍膜儀，可用于金屬薄膜的制備，在電子領域、光學領域、特殊陶瓷制備等領域均有應用，也可實驗室SEM樣品制備。
本套配置采用高真空不銹鋼腔體，腔體設置帶擋板的石英觀察窗，便于實驗的觀察記錄；腔體設計真空性能優(yōu)良，造型小巧，十分適合實驗室使用。同時設備配有旋轉(zhuǎn)加熱樣品臺，可以有效提高薄膜的均勻性和成膜的質(zhì)量。整機采用模塊化設計，操作邏輯簡單，操作界面直觀，利于上手。
磁控濺射鍍膜儀技術(shù)參數(shù)：
|
產(chǎn)品名稱 |
桌面型不銹鋼腔體單靶直流磁控濺射鍍膜儀 |
|
|
產(chǎn)品型號 |
TN-MSZ194-I-DC-SS |
|
|
樣品臺 |
外形尺寸 |
φ100mm |
|
加熱溫度 |
≦500℃ |
|
|
可調(diào)轉(zhuǎn)速 |
≦20rpm |
|
|
磁控靶槍 |
配一支兩英寸磁控靶，靶材尺寸:直徑50.8mm，厚度≦3mm |
|
|
真空腔體 |
腔體尺寸 |
φ194mm X 263mm |
|
觀察窗口 |
φ50mm |
|
|
腔體材料 |
304不銹鋼 |
|
|
開啟方式 |
上蓋開啟式 |
|
|
真空系統(tǒng) |
前級泵 |
低噪音雙極旋片泵 |
|
分子泵 |
低噪音大抽速渦輪分子泵 |
|
|
真空測量 |
復合真空計，量程:10-5~105Pa |
|
|
抽氣接口 |
KF16 |
|
|
抽氣接口 |
KF40 |
|
|
排氣接口 |
KF16 |
|
|
系統(tǒng)真空 |
1.0×10-4Pa |
|
|
供電電源 |
AC 220V 50/60Hz |
|
|
抽氣速率 |
分子泵抽速60L/s，前級泵抽速1.1L/s |
|
|
電源配置 |
電源數(shù)量 |
直流電源一套 |
|
輸出功率 |
直流電源500W |
|
|
其他參數(shù) |
供電電壓 |
AC220V,50Hz |
|
整機功率 |
2kW |
|
|
重量 |
80kg |
|
|
整機尺寸 |
550mm X 450mm X750mm |
|
